展会介绍
SPIE 先进光刻技术 + 图案化 2027 被公认为光刻和图案化领域的全球首要论坛，汇聚了研究人员、工程师和行业领袖。这项重要活动为知识和创新的交流提供了无与伦比的平台，对于致力于推动半导体行业发展的专业人士至关重要。与会者将有机会深入探讨尖端的光刻和图案化技术，参与关于最新进展的讨论，并发现正在积极塑造微电子未来的突破性解决方案。对于参展商而言，展会提供了显著的机会来提升公司知名度，与领先供应商建立联系，并建立重要的业务关系。它是一个展示新产品、促进演示、发布公司公告以及参与重要行业会议的宝贵资源，是所有从事光学工程、半导体和光电子领域人士的必参加活动。
展会亮点
5 项01
全球光刻论坛
光刻和图案化领域知识交流与创新的首要盛会。
02
尖端技术洞察
探索半导体行业最新进展和塑造未来的技术。
03
广泛行业交流
与研究人员、工程师和行业领袖建立联系，促进合作。
04
多元展品展示
涵盖从光刻设备到软件和光学元件的广泛技术。
05
参展商发展机遇
提升知名度，发现新产品，并与领先供应商和潜在合作伙伴互动。
往届数据
4,000
参观人数
100
参展商
1,486
净展览面积 · ㎡
常见问题
5 条2027 年活动的注册预计将于 11 月开放。
活动将在圣何塞麦克内里会议中心举行，地址是 150 W San Carlos Street, San Jose, California 95113。
活动由国际光学与光子学学会 SPIE 组织。
展会主要面向半导体、光电子和技术领域的专业人士，重点关注光刻和图案化。
本次活动预计将有 100 家参展商，吸引 4000 名参观者，并覆盖 16000 平方英尺的展览面积。